Kontakt

M. Sc. Jonas Kaltenbach

Tel. 0721 608-48682, -46507, -45264 (jonas kaltenbach does-not-exist.kit edu)

Vakuum

≤ 2×10-6 mbar

Bedampfungskopf

Fadenverdampfung Kohlenstoff

Sputtertargets

Pt, Au, Ag, Ir, W, Cr, Pd

Wechselmechanismus

Belüftungsfreier Wechsel zwischen Bedampfungs- und Sputterkopf

Stage

Automatisiert, rotierend

Kippwinkel Stage

± 60 °

Arbeitsabstand (working distance)

30 - 100 mm

Schichtdickenmessung

Quarzkristall

Schichtdicke

Bis 1000 nm (übliche Verwendung 10 nm)

Beschichtungsdauer

1 – 1800 s

Vakuumsystem

Ölfrei, 67 l/s Turbomolekular-Drag-Pumpe mit Membran-Vorpumpe

Prozessgas

Ar