Kontakt |
Tel. 0721 608-48682, -46507, -45264 (jonas kaltenbach) ∂ kit edu |
Vakuum |
≤ 2×10-6 mbar |
Bedampfungskopf |
Fadenverdampfung Kohlenstoff |
Sputtertargets |
Pt, Au, Ag, Ir, W, Cr, Pd |
Wechselmechanismus |
Belüftungsfreier Wechsel zwischen Bedampfungs- und Sputterkopf |
Stage |
Automatisiert, rotierend |
Kippwinkel Stage |
± 60 ° |
Arbeitsabstand (working distance) |
30 - 100 mm |
Schichtdickenmessung |
Quarzkristall |
Schichtdicke |
Bis 1000 nm (übliche Verwendung 10 nm) |
Beschichtungsdauer |
1 – 1800 s |
Vakuumsystem |
Ölfrei, 67 l/s Turbomolekular-Drag-Pumpe mit Membran-Vorpumpe |
Prozessgas |
Ar |